文章来源：半导体与物理 原文作者：jjfly686 本文介绍了用抗反射涂层来保证光刻精度的原理。 在半导体芯片制造的光刻工艺中，光刻胶（Photoresist）的曝光精度直接决定了最终电路图案的准确性。然而，基底材料对紫外光（UV）的反射会导致光刻胶的异常曝光，引发图案变形。Bottom Anti-Reflective Coating（BARC，抗反射涂层）正是为了解决这一问题而被引入的关键材料。 一、为什么需要BARC？ 在光刻过程中，紫外光透过光掩膜（Photomask）照射到光刻胶上，光刻胶的感光区域发生化学反应，显影后形成所需图案。然而，当紫外光到达基底材料（如非